銅退場、硅光上位:AI算力如何逼着數據中心"光進銅退"?
AI算力需求爆發倒逼數據中心光互連全面替代銅纜,技術路線正從傳統可插拔光模塊向CPO共封裝光學演進。硅光子成為當前主流平台,預計2026年硅光模塊銷售額將首超整體市場50%,CPO光學引擎市場在2026至2031年間將維持超200%的複合增速。
查看来源燊銘科技(SMK Materials)自2015年成立以來,深耕半導體先進封裝與精密膜材領域,為全球客戶提供高性能研磨膠帶、玻璃晶圓、模切製品及特殊功能膜材。
四大產品線,覆蓋半導體製造全流程
Back Grinding Tape 是半導體晶圓減薄製程中的關鍵保護性材料。使用鑽石樹脂砂輪研磨輪去除晶圓背面矽材料,此工藝高效、快速且成本低於化學機械替代方案。在研磨過程中,去離子水用於清洗表面碎片並防止污染。
| 型號 | 基材厚度(μm) | 基材材質 | 膠厚(μm) | 總厚(μm) | 類型 | 建議參數 |
|---|---|---|---|---|---|---|
| SMK-09062 | 85 | PE | 40 | 125 | 標準型 | 撕膜加溫55℃~75℃ |
| SMK-20062 | 85 | PE | 40 | 125 | 標準型 | — |
| SMK-24066 | 85 | PE | 15 | 100 | DBG/SDBG | — |
| SMK-0435 | 425 | PET+PO | 10 | 435 | 高凸塊型(Bump>100μm) | Table 75℃ / Roller 75℃ / Pressure 0.45MPa / Speed 3mm/s |
Back Grinding Tape 是半導體晶圓減薄製程中的關鍵保護性材料。使用鑽石樹脂砂輪研磨輪去除晶圓背面矽材料,此工藝高效、快速且成本低於化學機械替代方案。在研磨過程中,去離子水用於清洗表面碎片並防止污染。
共享 · 共生 · 共贏
共享,共生,共贏 — 與客戶、夥伴、員工共同成長,創造永續價值
顯示事業材料開發起步,TFT-LCD 和 Touch Panel 設計加工
建立模切加工基地,與各國先進材料原廠合作
導入車載事業,提供車載顯示產品和光學膜材
高精度半導體材料突破,獲台灣客戶認可
五大服務據點,覆蓋海峽兩岸
採用日本大廠原料,從源頭確保品質
標準化作業流程,確保產品一致性
持續研發投入,掌握核心工藝技術
嚴格品控體系,零缺陷目標
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AI算力需求爆發倒逼數據中心光互連全面替代銅纜,技術路線正從傳統可插拔光模塊向CPO共封裝光學演進。硅光子成為當前主流平台,預計2026年硅光模塊銷售額將首超整體市場50%,CPO光學引擎市場在2026至2031年間將維持超200%的複合增速。
查看来源武漢芯豐精密科技有限公司二期項目全面投用,高端晶圓減薄設備產能預計提升一倍。其自主研發的12英寸晶圓超精密環切設備打破海外技術壟斷並實現批量應用,為半導體關鍵裝備國產替代及產業鏈自主可控提供重要支撐。
查看来源隨着AI算力需求激增,硅中介層在2.5D封裝中面臨性能瓶頸,TGV玻璃通孔與高密度RDL組合憑藉低損耗、低介電常數及成本優勢成為破局關鍵。2026年該技術已從實驗室走向產線,長電科技、康寧等巨頭加速佈局,預計2028年實現規模化量產,推動先進封裝向玻璃基板時代邁進。
查看来源本文介紹了利用飛秒激光器在玻璃基板上製造高密度玻璃通孔(TGV)的技術,實現了長徑比超1:80、鑽孔時間低至350毫秒的加工效果。同時引入激光誘導選擇性表面活化技術實現直接鍍銅金屬化,為下一代半導體先進封裝提供了高效精確的解決方案。
查看来源2026年CPO技術正式邁入量產階段,英偉達、博通及國內頭部廠商在硅光封裝、光引擎集成及交換機產品上加速商用部署。文章對比了各廠商的技術路線與量產進展,指出封裝良率、熱管理及可維護性仍是當前規模化普及的核心挑戰。預計全球CPO市場規模將迎來爆發式增長,GPU互連成為未來主要增量方向。
查看来源隨着全球半導體產業向我國大陸轉移,2024年我國晶圓月均產能近900萬片,帶動晶圓研磨膠帶市場需求持續增長。目前全球市場主要由日本企業主導,但本土企業已加速佈局研發與生產,行業景氣度有望進一步提升。
查看来源與全球領先半導體企業建立長期合作關係
服務國內外半導體廠商,包括晶圓代工廠、封測廠、記憶體製造商等,提供高品質半導體材料解決方案
期待與您探討合作機會